RSS
Новости
21 сентября 2017, 19:52
Создан новый метод создания пленок из полупроводников толщиной всего в несколько атомов
Изобретатели из Чикагского университета разработали простую и эффективную технологию получения однородных слоёв полупроводников толщиной всего в несколько атомов.

Поместив готовые слои в вакуумную камеру, учёные отделяли их от исходной подложки и накладывали друг на друга. В полученной таким образом плёнке слои скрепляются между собой слабыми связями, которые в отличие от ковалентных, не нарушают идеальных поверхностей раздела между слоями.

Полученные пленки можно погружать в воду, а также вырезать в различные формы с помощью ионного лазера, что может найти применение в компьютерных процессорах и других устройствах.

Разработчики отмечают, что их новая технология пригодится для различных устройств — от солнечных элементов до сотовых телефонов.

Читайте самые интересные истории ЭлектроВестей в Telegram и Viber

По материалам: hightech.fm
ELEKTROVESTI.NET экономят ваше время
Подпишитесь на важные новости энергетики!
Подпишитесь на ЭлектроВести в Твиттере
Самое читаемое